我国的洁净技术和设备与国外先进国家相比差距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA过滤器，比国外晚了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0．1微米洁净技术和设备在国际上先进国家已成为成熟技术，我国则刚刚起步。 世界各工业先进国家为适应超净技术的发展，对大量使用的高效过滤器的研究从未中断，几年来一直在开发不同结构不同性能的新产品，美国自1979年开始研制0．1微米ULPA过滤器，1984年美国AAF公司开始生产0．1微米无隔板ULPA过滤器，目前0．1微米ULPA过滤器在美国AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生产。日本也已成为世界上生产0．1微米ULPA过滤器厂家最多的国家，品种繁多，产品系列化，尤其是低压损型0．1微米ULPA过滤器的开发成功解决了初阻力大的技术难题。国际市场对高效空气过滤器的需求量很大，且每年均有增长，目前日本每年销售超过100万台，按每台平均价格200美元计算，销售额达2亿美元。我国高效空气过滤器市场需求量已接近每年10万台，占国际市场的2％~4％，但至今还没有0．1微米ULPA过滤器生产，用于超大规模集成电路生产洁净厂房及各种高科技领域洁净厂房的0．1微米ULPA过滤器目前还要依赖进口。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与先进国家差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71．8万平方米，而我国目前一年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188．5万平方米。在洁净工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0．1微米级的超净室，1987年日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制0．1微米尘埃的千级厂房，换气次数高达300次／分。美国在台湾的TSMCS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。我国使用的0，1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0．1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的投资中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。美国ASYST公司，德国MW公司发展的使用隔离技术的亚微米生产微环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。该项最新的洁净技术在100级洁净度的洁净厂房中，采用工艺设备局部使用隔离技术的微环境，把投资比例压缩到高级别的微环境，消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源产生对集成电路成品率和可靠性的影响作用。
洁净技术和装备的国际市场十分巨大，日本到80年代末、90年代初洁净技术和设备的销售额已突破35亿美元。美国和西欧等先进国家洁净设备和基础部件的销售额已达73亿美元。据中国电子专用设备工业协会统计，我国主要八家最大的净化设备厂的销售额1990年为8217万元，还不足1亿，1993年达到14495万元，占国际市场销售额的0．34％。但随着我国高新技术的迅速发展和微电子工业、光纤工业、液晶显示工业及光电器件工业、生物工程、医药工业的发展，我国潜在的巨大的洁净技术产品市场，以每年40％~50％的增长速度在增加。
